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侾擭宱夁偟偨僇僀僐棏偺棏怓
惓忢棏			愒棏	扺愒娽敀棏	戞俀敀棏	戞侾敀棏

1. 僉僰儗僯儞偺掕惈
仜帋栻
(1).僷儔僕儊僠儖傾儈僲儀儞僘傾儖僨僸僪1g傪30%HCl 25ml偵梟偐偟丆悈傪壛偊偰50ml偲偡傞丅
(2).3%夁巁壔悈慺悈
(3).10% 僩儕僋儘儘恷巁乮彍抈敀幙嵻;TCA乯

仠掕惈丗
 (1)俀夐嬫偺棏傪嶻棏戜巻偐傜攳偑偡乮嶻棏戜巻偛偲10暘埵悈摴悈偵捫偗傞偲棏偑嶻棏戜巻偐傜庢傟傗偡偔側傞乯丅巰棏乮拑怓偺棏傗捵傟棏摍乯偍傛傃泎壔棏乮摟柧乯偼彍奜偟丆鄅巻偱悈暘傪怈偒庢傞丅
 (2)栺0.25g(廳検傪應傞偙偲)偺嶾棏傪擕敨偵偲傝丆彮検偺愇塸嵒偲2ml偺10%TCA傪壛偊偰杹嵱偡傞(愇塸嵒偼杹嵱偡傞偩偗側偺偱彮検偱椙偄乯丅
 (3)擕敨偐傜墦怱娗傊杹嵱偟偨塼傪堏偡丅擕敨偵巆偭偨塼偵 4ml偺10%TCA傪壛偊丄墦怱娗傊堏偡丅
 (4) 3000rpm偱10暘娫墦怱暘棧偡傞乮墦怱娗偼愇塸嵒偱僶儔儞僗傪偲偭偰墦怱暘棧婡偵偐偗傞乯丅
 (5)忋惔傪2ml偲傝 0.2ml偺帋栻(1)偲 0.2ml偺3%夁巁壔悈慺悈傪壛偊偨屻丆70亷偺壏梺拞偱20暘娫斀墳偝偣傞(帋尡娗偑搢傟側偄傛偆偵僥乕僾偱傑偲傔傞)丅10% TCA 傪懳徠嬫偲偟偰斀墳偝偣傞丅丂僉僰儗僯儞偺懚嵼偵傛傝愒巼怓偲側傞丅斀墳塼偼懳徠嬫偺怓偍傛傃斀墳偝偣偰偄側偄巆傝偺忋惔偺怓偲斾妑偡傞偙偲(忋惔帺懱丄愒偄傕偺偑偁傞)丅


2. 3-僸僪儘僆僉僔僉僰儗僯儞(3-OHK)偺掕惈
仜帋栻
(1) Ehrlich帋栻丗僗儖僼傽僯儖巁1g傪 conc.HCl(尨塼)10ml偵偲偐偟丆悈偵壛偊偰 200ml偲偡傞丅巊梡偡傞捈慜偵 0.5% NaNO₂ 悈梟塼傪5ml崿崌偡傞丅
(2)80%僄僠儖傾儖僐亅儖
(3)15% NaOH

仠掕惈
(1)俀夐嬫偺棏傪嶻棏戜巻偐傜攳偑偡乮嶻棏戜巻偛偲10暘埵悈摴悈偵捫偗傞偲棏偑嶻棏戜巻偐傜庢傟傗偡偔側傞乯丅巰棏乮拑怓偺棏傗捵傟棏摍乯偍傛傃泎壔棏乮摟柧乯偼彍奜偟丆鄅巻偱悈暘傪怈偒庢傞丅
(2)栺0.25g(廳検傪應傞偙偲)偺嶾棏傪擕敨偵偲傝丆3ml偺 80%僄僠儖傾儖僐亅儖偲彮検偺愇塸嵒傪壛偊偰杹嵱偟丆偝傜偵3ml偺80%僄僠儖傾儖僐亅儖傪壛偊丆傛偔愻偄側偑傜墦怱娗偵堏偡丅
(3)栺20暘娫曻抲偟偨屻丆3000rpm偱10暘娫墦怱暘棧偡傞丅忋惔1ml傪偲傝丆昘悈偱椻媝偟側偑傜Ehrlich帋栻傪侾ml壛偊丆峏偵0.6ml偺 15% NaOH 傪壛偊偰傛偔崿榓偡傞乮帋栻傪擖傟傞弴彉傪曄偊傞偲斀墳偟側偄偺偱拲堄乯丅懳徠嬫偼80% 僄僠儖傾儖僐亅儖傪懳徠嬫偲偟偰斀墳偝偣傞丅丂3-OHK偺懚嵼偱愒峠怓偲側傞丅斀墳塼偼懳徠嬫偺怓偍傛傃斀墳偝偣偰偄側偄巆傝偺忋惔偺怓偲斾妑偡傞偙偲

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